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光刻机巨头ASML美国销售额连续3年下降,韩国、中国台湾同期增长3倍

光刻机全球龙头 ASML 在美国的销售额连续 3 年下降,与此形成鲜明对比的是,同期 ASML 在韩国和中国台湾地区的销量增幅高达 3 倍,证明美国对半导体生产基础设施的投资不足。

光刻机巨头ASML美国销售额连续3年下降,韩国、中国台湾同期增长3倍

据 ETNews 报道,ASML 占全球光刻机市场的 84%,并独家供应先进工艺所需的 EUV 光刻机引进其设备的数量会影响半导体生产能力,因此其销售额能够被用于衡量各地区对半导体设备投资情况

财报显示,2019 年到 2021 年,ASML 在美国的收入下降了约 20%从 2019 年的 19.8 亿欧元,到 2020 年和 2021 年分别减少到 16.57 亿欧元和 15.83 亿欧元

同期,ASML 在亚洲的销售额显著增长在主要的半导体生产基地韩国,销售额从 2019 年的 22.02 亿欧元增长到 2021 年的 62.23 亿欧元,增长了近两倍

中国台湾地区也从 2019 年的 53.57 亿欧元增长到去年的 73.27 亿欧元,增幅为 37%这是三星电子和 SK 海力士为扩大尖端微处理能力,引进了大量 EUV 光刻机的结果台积电大举投资半导体设备,也推动了销售的增长

在美国禁止出口 ASML 核心设备 EUV 曝光设备的中国大陆,其年销售额也翻了一番,从 2019 年的 13.77 亿欧元增至 2021 年的 27.4 亿欧元据分析,中国大陆购买的光刻设备比美国还多除受管制的 EUV 设备外,主要引进了 ArF,KrF,i 线等光刻设备

ASML 在美国的销量下降证明,美国在半导体生产基础设施方面的投资到目前为止还不够到 2020 年,美国缺乏投资半导体晶圆厂的意愿据分析,这是因为英特尔宣布进入代工领域的时间较晚,以及美光曾经对 EUV 设备持怀疑态度

伴随着美国吸引本国的半导体生产基地,ASML 设备的引进预计将会加速英特尔计划到 2025 年采用 ASML 下一代曝光设备,美光也正式使用 EUV 设备

但是半导体业界预测,美国的半导体生产能力不会立即超过中国台湾和韩国半导体业界有关人士表示:作为 ASML 的主要销售和核心设备的 EUV 设备在中国台湾为 80 台,在韩国为 50 台,与美国存在差距美国大举投资不会导致短期产能逆转

据《澎湃新闻》报道,近日,掩模对准器龙头ASML中国区总裁沈波在接受采访时表示,公司对向中国掩模对准器出口集成电路持开放态度。

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